E&H News and Jews

В условиях жестких технологических санкций китайская полупроводниковая промышленность оказалась в сложном положении. По оценке генерального директора ASML Кристофа Фуке, отставание Китая от западных производителей в этой критически важной отрасли составляет от 10 до 15 лет, и этот разрыв может увеличиться. Это громкое заявление подчеркивает растущую технологическую пропасть, образовавшуюся в результате усиления санкционного давления со стороны США, ограничивающего доступ китайских производителей к передовым технологиям производства микросхем. В сложившихся условиях китайские технологические гиганты, столкнувшись с невидимыми барьерами на пути к современным полупроводниковым разработкам, вынуждены искать нестандартные решения, опираясь на отечественное, но уже устаревающее оборудование. Несмотря на первоначальные опасения относительно скорого преодоления введенных ограничений, руководитель ASML Кристоф Фуке выразил уверенность в том, что без доступа к критически важным технологиям, китайская полупроводниковая индустрия оказалась отброшена на десятилетие назад.

Главным фактором отставания является отсутствие у китайских производителей доступа к EUV (экстремальной ультрафиолетовой) литографии – технологии, необходимой для производства самых современных микросхем с топологическими нормами менее 5 нанометров. Вместо этого, китайским компаниям приходится использовать DUV (глубокую ультрафиолетовую) литографию – технологию предыдущего поколения, возможности которой практически исчерпаны.

www.tgoop.com/EH_News/10087

3.4K viewsedited  Jan 1 at 22:04

В условиях жестких технологических санкций китайская полупроводниковая промышленность оказалась в сложном положении. По оценке генерального директора ASML Кристофа Фуке, отставание Китая от западных производителей в этой критически важной отрасли составляет от 10 до 15 лет, и этот разрыв может увеличиться. Это громкое заявление подчеркивает растущую технологическую пропасть, образовавшуюся в результате усиления санкционного давления со стороны США, ограничивающего доступ китайских производителей к передовым технологиям производства микросхем. В сложившихся условиях китайские технологические гиганты, столкнувшись с невидимыми барьерами на пути к современным полупроводниковым разработкам, вынуждены искать нестандартные решения, опираясь на отечественное, но уже устаревающее оборудование. Несмотря на первоначальные опасения относительно скорого преодоления введенных ограничений, руководитель ASML Кристоф Фуке выразил уверенность в том, что без доступа к критически важным технологиям, китайская полупроводниковая индустрия оказалась отброшена на десятилетие назад.

Главным фактором отставания является отсутствие у китайских производителей доступа к EUV (экстремальной ультрафиолетовой) литографии – технологии, необходимой для производства самых современных микросхем с топологическими нормами менее 5 нанометров. Вместо этого, китайским компаниям приходится использовать DUV (глубокую ультрафиолетовую) литографию – технологию предыдущего поколения, возможности которой практически исчерпаны.

BY E&H News and Jews