RUSmicro

🇺🇸 Экстремальная фотолитография. EUV. Источники света. США

В Ливерморской лаборатории делают ставку на тулиевый лазер для создания более мощных и энергоэффективных источников EUV излучения для экстремальной фотолитографии

LLNL будет руководить исследованиями в области EUV-литографии следующего поколения. В частности, партнерство под общим руководством Ливерморской национальной лаборатории им. Лоуренса, США, занимается так называемым тулиевым лазером с большой апертурой (BAT – Big Aperture Thulium).

Команда примет участие в работе Инновационного центра экстремальной литографии и материалов (ELMIC), одного из трех Научно-исследовательских центров мироэлектроники MSRC Управления науки Министерства энергетики США. Минэнерго США выделило $179 млн на финансирование этих центров.

Проект Ливерморской лаборатории – это 4-х летнее исследование с финансированием $12 млн, которое должно расширить фундаментальные исследования в области генерации EUV, в частности, на базе плазменных источников частиц. Кроме того, в ELMIC занимаются темами плазменной нанофабрикации, системами на базе двумерных материалов и экстремально масштабируемой памятью.

В LLNL проверят, получится ли с помощью лазера BAT добиться увеличения эффективности источника EUV примерно в 10 раз по сравнению с лазерами на диоксиде углерода (CO2), которые обычно используются в этих целях сегодня. Кроме ожидаемого выигрыша в энергоэффективности, эти исследования могут стать основной для создания следующего поколения литографов, которые смогут использоваться для производства чипов с еще более плотным размещением узлов.

В последние 5 лет в Ливерморской лаборатории было проведено теоретическое моделирование плазмы и концептуальные демонстрации лазеров. В проекте участвуют ученые из Национальной ускорительной лаборатории SLAC, американское подразделение нидерландской ASML – ASML Сан-Диего, и Центр передовых исследований нанолитографии (ARCNL), государственно-частного исследовательского центра, базирующегося в Нидерландах.

Проект LLNL исследует гипотезу, суть которой в том, что энергоэффективность существующих источников EUV-литографии может быть улучшена с помощью технологии на основе BAT петаваттного класса, в основе которого – фторид иттрия-лития, легированный тулием, в качестве усиливающей среды. (..)

www.tgoop.com/RUSmicro/6430

1.2K viewsJan 7 at 12:29

🇺🇸 Экстремальная фотолитография. EUV. Источники света. США

В Ливерморской лаборатории делают ставку на тулиевый лазер для создания более мощных и энергоэффективных источников EUV излучения для экстремальной фотолитографии

LLNL будет руководить исследованиями в области EUV-литографии следующего поколения. В частности, партнерство под общим руководством Ливерморской национальной лаборатории им. Лоуренса, США, занимается так называемым тулиевым лазером с большой апертурой (BAT – Big Aperture Thulium).

Команда примет участие в работе Инновационного центра экстремальной литографии и материалов (ELMIC), одного из трех Научно-исследовательских центров мироэлектроники MSRC Управления науки Министерства энергетики США. Минэнерго США выделило $179 млн на финансирование этих центров.

Проект Ливерморской лаборатории – это 4-х летнее исследование с финансированием $12 млн, которое должно расширить фундаментальные исследования в области генерации EUV, в частности, на базе плазменных источников частиц. Кроме того, в ELMIC занимаются темами плазменной нанофабрикации, системами на базе двумерных материалов и экстремально масштабируемой памятью.

В LLNL проверят, получится ли с помощью лазера BAT добиться увеличения эффективности источника EUV примерно в 10 раз по сравнению с лазерами на диоксиде углерода (CO2), которые обычно используются в этих целях сегодня. Кроме ожидаемого выигрыша в энергоэффективности, эти исследования могут стать основной для создания следующего поколения литографов, которые смогут использоваться для производства чипов с еще более плотным размещением узлов.

В последние 5 лет в Ливерморской лаборатории было проведено теоретическое моделирование плазмы и концептуальные демонстрации лазеров. В проекте участвуют ученые из Национальной ускорительной лаборатории SLAC, американское подразделение нидерландской ASML – ASML Сан-Диего, и Центр передовых исследований нанолитографии (ARCNL), государственно-частного исследовательского центра, базирующегося в Нидерландах.

Проект LLNL исследует гипотезу, суть которой в том, что энергоэффективность существующих источников EUV-литографии может быть улучшена с помощью технологии на основе BAT петаваттного класса, в основе которого – фторид иттрия-лития, легированный тулием, в качестве усиливающей среды. (..)

BY RUSmicro