tgoop.com/lithography1mm/26
Last Update:
В рамках реализации дорожной карты по созданию фотолитографического оборудования уровня 350-90 нм Зеленоградский нанотехнологический центр уже несколько лет поэтапно проводит опытно-конструкторские работы совместно с партнером ОАО «Планар»
Несколько дней назад в рамках ВЭФ министр промышленности и торговли РФ Антон Алиханов рассказал, что в 2026 году будет создан литограф для работы на топологиях 130 нм
Действительно, летом в соответствии с планом подошел к концу 3 этап, в ходе которого на специализированной площадке инженерно-исследовательского центра АО «ЗНТЦ» завершилась отработка базового технологического процесса (БТП) на опытном образце установки с топологическими нормами 350 нм
Также были проведены технологические испытания тестовых структур, изготовленных на опытном образце, а затем выполнена его наладка
До конца года планируется завершить очередной этап, в том числе провести предварительные испытания и приемочные испытания опытного образца установки, а также разработать комплект рабочей технологической документации на БТП для серийного оборудования
Параллельно в сотрудничестве с ОАО «Планар» идут работы над установкой с разрешением 130 нм, в частности ООО «Лассард» разработан эксимерный лазерный источник для степпера, завершены приемочные испытания
Также макетируются основные узлы установки на 90 нм, и ведется разработка программы и методики ПрИ опытного образца установки и стенда для измерения (контроля) фотолитографических и аберрационных характеристик объективов на рабочих длинах волн
В 2026 году планируется завершить работу по созданию литографа с топологическими нормами 130 нм
BY Литография в домашних условиях
Share with your friend now:
tgoop.com/lithography1mm/26