tgoop.com/lithography1mm/67
Create:
Last Update:
Last Update:
Минпромторг заказал разработку установки химико-механического полирования диэлектрических слоев диоксида кремния, вольфрама и меди
На работы министерство выделило 1,7 млрд руб.
Установка будет применяться для изготовления чипов с топологическими нормами от 180 до 90 нм на пластинах диаметром 200 мм
Как следует из техзадания, прямой иностранный функциональный аналог разрабатываемой установки — американская MIRRA Mesa Integrated System 200 производства Applied Materials
Работы должны быть завершены 30 ноября 2028 г. Тендер был опубликован 11 ноября в формате открытого конкурса. Исполнителя определят 10 декабря
BY Литография в домашних условиях
Share with your friend now:
tgoop.com/lithography1mm/67